
Dans le processus de production de l'industrie des semi-conducteurs, l'eau est une matière première essentielle et un auxiliaire de processus. Cependant, certaines substances présentes dans l'eau sont nocives pour les équipements et les produits de production de semi-conducteurs, comme la matière organique et le chlore. Ces substances polluent les équipements de production, réduisent l'efficacité du travail et provoquent même des interruptions de production et une dégradation de la qualité des produits. Par conséquent, afin de garantir la stabilité et l'efficacité des équipements et des produits de production, l'industrie des semi-conducteurs utilise des filtres à charbon actif pour purifier l'eau et éliminer la matière organique et le chlore.
Pourquoi l’industrie des semi-conducteurs a-t-elle besoin d’une eau de haute qualité ?
Parmi les indicateurs de qualité de l'eau utilisés dans l'industrie des semi-conducteurs, la résistivité, les microparticules, les bulles (oxygène dissous, azote dissous) et le COT sont des indicateurs très importants. De légères différences peuvent entraîner une baisse de la qualité du produit et du taux qualifié dans le processus de production de composants semi-conducteurs. Les impacts spécifiques sont les suivants :
TOC (carbone organique total) : affecte la précision de la photolithographie et la qualité de la puce.
DO (oxygène dissous) : favorise la prolifération des bactéries, forme une couche d'oxyde et affecte la qualité des copeaux.
Bore (élément bore) : affecte la jonction PN et la qualité de la puce.
Silice (élément silicium) : provoque des taches d'eau sur les plaquettes et affecte la qualité des puces.
Ions métalliques : affectent la densité atomique des plaquettes et la qualité de la puce.
Microparticules : affectent la précision de la photolithographie et les microparticules conductrices provoqueront directement des courts-circuits.
Application de l'eau ultra pure dans l'industrie des semi-conducteurs
Dans la production de semi-conducteurs, l'eau ultra pure peut être utilisée pour le lavage des plaquettes, la dilution chimique, le polissage chimico-mécanique, la source d'humidification dans un environnement de salle blanche, etc. La qualité de l'eau ultra pure est directement liée au rendement des semi-conducteurs. À mesure que la taille des composants semi-conducteurs diminue et que leur sophistication augmente, les exigences techniques en matière de qualité de l'eau ultra pure augmentent également.

Préparation des gaufrettes :
L'eau ultrapure est utilisée pour nettoyer, éliminer les particules et les impuretés chimiques, assurer la propreté de la surface des plaquettes et ainsi réduire les défauts de fabrication.
Photolithographie:
Dans le processus de photolithographie des semi-conducteurs, de l'eau ultrapure est utilisée pour nettoyer les masques, les lentilles et les plaquettes afin de garantir une répétition précise des motifs et une qualité de photolithographie.
Gravure et corrosion :
L'eau ultrapure est utilisée pour le refroidissement et le nettoyage dans les processus de gravure et de corrosion des semi-conducteurs afin de maintenir la précision et la cohérence du processus.
Polissage mécano-chimique (CMP) :
L'eau ultrapure est utilisée pour refroidir, nettoyer et transporter les plaquettes pendant le CMP afin de garantir la planéité et la qualité de la surface pendant le CMP.
Dépôt électrochimique (ECD) :
L'eau ultrapure est utilisée pour nettoyer les films métalliques, les électrolytes et d'autres matériaux afin de garantir la précision et la cohérence du processus de dépôt électrochimique.
Équipements de refroidissement et tours de refroidissement :
L’eau ultrapure est également utilisée pour refroidir les équipements à semi-conducteurs afin de maintenir l’équipement à une température de fonctionnement appropriée.
Comment purifier l'eau avec du charbon actif dans l'industrie des semi-conducteurs ?
Le charbon actif joue plusieurs rôles spécifiques dans le traitement de l'eau des semi-conducteurs. Voici un bref aperçu de ses principales applications :

Élimination des contaminants organiques :
Adsorber des composés organiques pouvant interférer avec les processus de fabrication de semi-conducteurs.
Déchloration :
Élimine efficacement le chlore et les chloramines de l’eau, qui peuvent endommager les équipements sensibles.
Réduction du COT :
Réduit considérablement les niveaux de carbone organique total, essentiels au maintien des normes d’eau ultra-pure.
Filtration des particules :
Certains types de charbon actif agissent comme des filtres mécaniques, piégeant les particules fines.
Protection des membranes d'osmose inverse :
Élimination des composés susceptibles d’encrasser ou d’endommager les membranes d’osmose inverse.
Élimination des traces de contaminants :
Capture de traces de diverses impuretés susceptibles d’affecter la qualité des semi-conducteurs.
Prétraitement :
Agissant comme étape initiale de purification, améliorant l’efficacité des traitements ultérieurs.
Réduction des gaz dissous :
Aide à éliminer les gaz dissous comme le dioxyde de carbone, qui peuvent affecter la pureté de l’eau.
Conclusion
La dépendance de l'industrie des semi-conducteurs à l'égard de l'eau ultra-pure souligne le rôle essentiel des technologies avancées de traitement de l'eau. Le charbon actif se distingue comme un composant indispensable dans ce processus, offrant une efficacité inégalée dans l'élimination des composés organiques, du chlore et d'autres impuretés qui pourraient compromettre l'intégrité de la production de semi-conducteurs. Sa polyvalence dans le traitement de multiples contaminants, associée à sa rentabilité et à sa durabilité, en fait une solution idéale pour les exigences strictes de l'industrie en matière de qualité de l'eau.
Zhulin Carbon est spécialisé dans les solutions de charbon actif hautes performances conçues pour répondre aux normes rigoureuses de l'industrie des semi-conducteurs. Nos produits de charbon actif avancés sont conçus pour offrir une purification de l'eau supérieure, éliminant efficacement les composés organiques, le chlore et d'autres contaminants qui peuvent compromettre la fabrication des semi-conducteurs.
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